高真空多靶共溅薄膜沉积系统
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*****************年*至**月****意向-**** 详细情况
| **** | |
| 项目所在采购意向： | *****************年*至**月****意向 |
| 采购单位： | ************* |
| 采购项目名称： | **** |
| 预算金额： | ***.*******元(人民币) |
| 采购品目： |
*********其他电工、电子生产设备
|
| 采购需求概况 ： |
需求*套：*. 真空度优于* ×**-* **；*.薄膜沉积厚度控制精度优于*.** **； *.靶位多于*；*.衬底生长温度室温至***摄氏度。质保期*年。
|
| 预计采购时间： | ****-** |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位****工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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