采购内容:其他仪器仪表 采购数量:*.****台 主要功能或目标:*、仪器设备为刻蚀系统，其任务是支持洁净实验室中的薄膜表面刻蚀和处理任务，支持的表面处理包括各向同性刻蚀和各项异性刻蚀等多种工艺需求，适用于先进电子器件的制备和开发。需在洁净实验室 ** 小时不间断运行环境下，保持高稳定性和低故障率，全年理论工作时长超过 *,*** 小时；*、预期将*路特殊气体从外部接入超净间的干刻蚀设备，并实现特气无害化处理 需满足的要求:*、通过验收后，提供*年质保。 *、与采购的干刻蚀设备匹配，严格预防气体泄漏风险，满足气体无害化排放，提供质保

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